EUV Wavefront Metrology System in EUVA

机译：EUVA中的EUV波前计量系统

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An Experimental extreme ultraviolet (EUV) interferometer (EEI) using an undulator as a light source was installed in New SUBARU synchrotron facility at Himeji Institute of Technology (HIT). The EEI can evaluate the five metrology methods reported before. A purpose of the EEI is to determine the most suitable method for measuring the projection optics of EUV lithography systems for mass production tools.

机译：在姬路技术学院（HIT）的新SUBARU同步加速器设施中安装了使用波动器作为光源的实验性极紫外（EUV）干涉仪（EEI）。 EEI可以评估以前报告的五种计量方法。 EEI的目的是确定最适合用于量产工具的EUV光刻系统的投影光学系统的测量方法。

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来源
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VIII pt.2; 20040224-20040226; Santa Clara,CA; US》|2004年|P.797-807|共11页
会议地点 Santa Clara CA(US)
作者
Takayuki Hasegawa; Chidane Ouchi; Masanobu Hasegawa; Seima Kato; Akiyoshi Suzuki; Katsumi Sugisaki; Katsuhiko Murakami; Jun Saito; Masahito Niibe;
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作者单位

Utstunomiya Laboratory, EUV Metrology Technology Research Department, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA) 23-10, Kiyohara-kogyodanchi, Utsunomiya, Tochigi 321-3298, Japan;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类半导体技术;
关键词
interferometer; extreme ultraviolet lithography; EUV; at-wavelength; undulator;

机译：干涉仪；极紫外光刻； EUV；波长；波荡器;

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