Fraunhofer IISB, Schottkystraße 10, 91058 Erlangen, Germany;
Fraunhofer IISB, Schottkystraße 10, 91058 Erlangen, Germany;
EpiGaN, Kempische Steenweg 293, 3500 Hasselt, Belgium;
EpiGaN, Kempische Steenweg 293, 3500 Hasselt, Belgium;
Fraunhofer IISB, Schottkystraße 10, 91058 Erlangen, Germany;
GaN on Si; cathodoluminescence; carbon doping; dislocations; electrical properties,structural properties;
机译:功率电子器件硅基GaN有源层中关键结构缺陷的研究
机译:离散功率电子器件上的有功功率循环与无源热循环相结合的研究
机译:电力电子设备应用中碳化硅外延层的生长,形态和结构表征
机译:电力电子器件甘型电力型危重结构缺陷的研究
机译:Gan-on-Si横向异性结电源装置的界面工程和散装陷阱调查
机译:高温功率电子器件用碳化硅转换器和MEMS器件的评论
机译:电源电子增强在听力保护技术大约2010年,包括有源降噪,电子调制的声音传输和战术通信设备:设计,测试和研究审查