【24h】

MBE of quantum wires and quantum dots

机译:量子线和量子点的MBE

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摘要

The fabrication of semiconductor quantum wire and quantum dot arrays with high uniformity and controlled positioning is an outstanding challenge in nanostructure materials science. We demonstrate a significant step forward by combining self-organized epitaxial growth with lithographic patterning and the assistance of atomic hydrogen on high-index GaAs substrates. This concept provides a strict control of chemical, structural and geometric perfection of these semiconductor nanostructures which is needed for realistic device applications.
机译:具有高均匀性和受控位置的半导体量子线和量子点阵列的制造是纳米结构材料科学中的突出挑战。我们通过结合自组织的外延生长和光刻图案以及高折射率GaAs衬底上的原子氢的辅助,证明了向前迈出的重要一步。这个概念提供了对这些半导体纳米结构的化学,结构和几何完美性的严格控制,这是现实的设备应用所必需的。

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