Research Institute for Applied Mechanics, Kyushu University (6-1, Kasuga-Koen, Kasuga 816-8580, JAPAN);
机译:横向磁场应用切克劳斯基方法分析晶体生长过程中硅熔体-晶体界面处杂质的局部偏析
机译:横向磁场下硅直拉晶体生长中熔体晶体界面附近的温度分布分析
机译:尖峰形磁场和热导率对CZ晶体生长中熔体晶体界面影响的数值研究
机译:磁场对Czochralski硅生长熔融晶体界面形状和熔体流动的影响
机译:具有稳定和旋转磁场的化合物半导体晶体的液体封装Czochralski生长。
机译:磁场中铁磁形状记忆合金Ni50 + xMn27-xGa23的磁性
机译:Czochralski技术生长磁性硅单晶过程中零高斯平面的位置对熔体界面氧浓度的影响
机译:连续的Czochralski增长。开发先进的Czochralski生长工艺,从单坩埚生产低成本150 Kg硅锭,实现技术准备