Department of Microelectronics, Xidian University, Xi'an 710071, China;
机译:在直流和交流应力下具有HfSiON栅极电介质的n-MOSFET中随时间变化的介电击穿(TDDB)分布
机译:具有HfLaO和HfZrLaO超薄栅极电介质的金属氧化物半导体电容器的时间相关介电击穿(TDDB)特性
机译:CMOS模拟和射频(RF)电路的时间依赖性介电击穿(TDDB)可靠性分析
机译:通过双电压斜坡电介质击穿(DVRDB)测试来预测低k / ULK互连电介质的时变电介质击穿(TDDB)特性的改进berman模型
机译:VLSI互连可靠性的建模与仿真方法对焦于时间依赖性介电故障
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:在直流和交流应力下具有HfSiON栅极电介质的n-MOSFET中随时间变化的介电击穿(TDDB)分布