Department of Materials, University of Oxford, Parks Road, Oxford OX1 3PH, United Kingdom;
hydrogenated amorphous Si; optical band gap; photoluminescence;
机译:由甲硅烷-氢混合物进行等离子体化学沉积制备的非晶氢化硅膜的光电特性和光学特性
机译:富含硅的氢化非晶氮化硅薄膜的光学和结构特征
机译:退火对氢化非晶碳和氢化非晶氮化碳薄膜光学和化学键合性能的影响
机译:纳米结构对氢化无晶硅膜光学特征的影响
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:非晶氢化碳膜(a-C:H)精制可持续的聚己二酸对苯二甲酸丁二醇酯(PBAT)揭示了膜厚度随sp2 / sp3比率变化而变化的不稳定性
机译:来自非晶碳和非晶氢化碳膜的光吸收和电子自旋共振研究的π能带和能隙状态
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日