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Rapid optical figuring of aspherical surfaces with plasma-assisted chemical etching

机译：利用等离子体辅助化学蚀刻对非球面进行快速光学加工

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Abstract: Programmed motion of a tool which removes material by plasma assisted chemical etching (PACE) gives controlled, deterministic figuring. The process has been automated to correct arbitrary figure errors on aspheric surfaces directly from the measured surface data. A system is now operating for figuring aspheric surfaces up to 0.5 m diameter. PACE can greatly reduce the time and cost of figuring large optics by its rapid convergence to the final figure requiring only two to three measurement/figuring cycles to reach 1/50 wave surfaces. PACE intrinsically smooths high frequency roughness with material removal leaving a surface free of subsurface damage.!6
机译：摘要：通过等离子辅助化学蚀刻（PACE）去除材料的工具的编程运动提供了受控的确定性图形。该过程已经自动化，可以直接从测量的表面数据中纠正非球面表面上的任意图形误差。现在正在运行一个系统，用于计算直径最大为0.5 m的非球面。通过快速收敛到最终图形，PACE只需2至3个测量/图形周期即可达到1/50的波面，从而可以大大减少大型光学元件的加工时间和成本。 PACE本质上可以平滑高频粗糙度并去除材料，使表面没有亚表面损坏。！6

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