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首页> 外文会议>IEEE International Conference on Nanotechnology >A route for periodic nanodot fabrication in substrates using nanochanel alumina membranes as masks for ion implantation
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A route for periodic nanodot fabrication in substrates using nanochanel alumina membranes as masks for ion implantation

机译：使用纳米铝氧化铝膜作为离子注入的掩模的底物中周期纳米型制造的途径

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Progress in ion implantation of metal ions into substrates of amorphous silica or Si-nitride with respect to lateral periodic patterning is presented. We use a 2D-nanoporous membrane of anodic aluminium oxide (AAO) as mask to conduct the Co ion implantations. The criteria for successful masked implantation and main problems are presented, including testing of the masks in a focused ion beam (FIB) system. It is proposed that electron transparent thin windows are the most suitable substrate for methods development, as TEM observation can be followed without any further sample milling. Co clusters are found to exhibit the same lateral order as the pores, and first annealing tests to achieve Co nanoparticles are shown using an in-situ heating TEM holder.
机译：介绍了金属离子离子植入到非晶二氧化硅或Si-氮化物的基板上相对于横向周期图案化的进展。我们使用阳极氧化铝（AAO）的2D纳米孔膜作为掩模来进行CO离子注入。提出了成功掩蔽植入和主要问题的标准，包括在聚焦离子束（FIB）系统中的掩模的测试。提出电子透明薄窗是用于方法开发的最合适的衬底，因为可以遵循TEM观察而无需进一步的样品铣削。发现CO簇表现出与孔相同的横向阶数，并且使用原位加热TEM保持器示出了实现CO纳米颗粒的首先退火测试。

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