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【24h】

ArF 液浸リソグラフィで作製したエレファントカプラ

机译:ArF浸没式光刻技术制造的大象耦合器

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摘要

更なる低損失化には各種最適化が必要であるが、エレファントカプラの実用化における2つの大きな課題を解決したことにより、本技術が特にマルチコアファイバとの光結合のようなアレイ型の表面結合器を必要とする応用において優位性を持つ技術になり得ると考えている。
机译:需要进行各种优化以进一步减少损耗,但是电子设备 解决幻影耦合器实际应用中的两个主要挑战 经决定,这项技术将特别是多芯光纤 需要阵列型表面耦合器,例如光耦合 我们认为,这可能是在使用方面具有优势的技术。

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