Study on contamination control for wafer surface using SMIF . FOUP (Part 2)

机译：晶圆表面使用SMIF＆的污染控制研究。 FOUP（第2部分）

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The performance of a semiconductor device and a liquid crystal device becomes highly efficient, and the clean technology on the surface of a substrate is becoming important It is indispensable in order that contamination control of not only particle but also airborne molecular contaminants may secure the high reliability and the high yield of a product. Therefore, adopting mini-environment cleanroom system aiming at localization of a clean area reduces manufacture cost. In this study, we describe the contamination control effect on the surface of a wafer using an environmental box with the function to keep clean the inside of a pod by a fan and a filter.

机译：半导体器件和液晶装置的性能变得高效，并且基材表面上的清洁技术变得重要，这是必不可少的，以便污染控制不仅粒子而且空气传播的分子污染物可以确保高可靠性和产品的高产率。因此，采用迷你环境洁净室系统，旨在定位清洁面积降低制造成本。在这项研究中，我们使用具有功能的环境箱描述晶片表面上的污染控制效应，以通过风扇和过滤器保持窗户的内部。

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来源
《空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会》|2004年||共3页
会议地点
作者
Takeshi Ishiguro; Toshitami Ro; Hiroaki Murakami;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类 X-532;
关键词
Mini Environment; Wafer; Front Opening Unified Pod; Standard of Mechanical Interface; Surface Contamination; Environmental Box;

机译：迷你环境;晶圆;前开放统一豆荚;机械界面标准;表面污染;环境箱;

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