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首页> 外文会议>Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX pt.2 >An In-line Image Quality Monitoring System for Imaging Device Fabrication using Automated Macro-Inspection
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An In-line Image Quality Monitoring System for Imaging Device Fabrication using Automated Macro-Inspection

机译：使用自动宏观检查的成像设备制造在线图像质量监控系统

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An in-line image quality monitoring system using automated macro-inspection is described. One of the critical problems in reducing yield in CCD manufacture is the production of mura, regions of uneven sensitivity in the device. In this paper, an in-line mura-related yield monitor is presented using the recently developed Tokyo Aircraft Instrument Company EDIS-3000 Automated Macro-Inspection system, which has a high sensitivity and a high resolution optical module developed by IBM™ Japan. The optical module is designed to focus on reflected light from the pattern edge, not on the traditional diffracted light, so it is expected to register the linearity between the wafer CD and the wafer image. This system is expected to reduce yield loss, resulting in a faster time-to-market for imaging devices.
机译：描述了使用自动宏观检查的在线图像质量监视系统。降低CCD制造中的成品率的关键问题之一是在器件中灵敏度不均匀的区域产生斑纹。在本文中，使用了最近开发的东京飞机仪表公司EDIS-3000自动宏观检查系统，提出了一种与mura相关的在线产量监控器，该系统具有由IBM™Japan开发的高灵敏度和高分辨率光学模块。光学模块设计为聚焦在图案边缘的反射光上，而不是传统的衍射光上，因此可以预期在晶圆CD和晶圆图像之间记录线性度。该系统有望减少良率损失，从而缩短成像设备的上市时间。

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