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【24h】

Refractive microlens arrays fabricated by reactive ion etching

机译:通过反应离子刻蚀制造的折射微透镜阵列

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摘要

Abstract: Reactive ion etching (RIE) is used to fabricate infrared refractive micro-optics in silicon. Three methods are used: binary optics technology which uses iterative steps of photolithography and RIE to create a multistep approximation to an aspheric profile; direct etching of a preshaped polymer microlens etch mask into the substrate; and analog etching of a lens profile directly into the substrate through a pinhole mask. !18
机译:摘要:反应离子刻蚀(RIE)用于在硅中制造红外折射微光学元件。使用三种方法:二元光学技术,它使用光刻和RIE的迭代步骤来创建非球面轮廓的多步近似;将预成形的聚合物微透镜蚀刻掩模直接蚀刻到基板中;通过针孔掩模将透镜轮廓直接蚀刻到基板上。 !18

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