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首页> 外文会议>NATO Advanced Study Institute on Photovoltaic and Photoactive Materials - Properties, Technology and Applications Sep 9-21, 2001 Sozopol, Bulgaria >COST-EFFECTIVE POROUS SILICON TECHNOLOGY FOR SOLAR CELL INDUSTRIAL APPLICATIONS
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COST-EFFECTIVE POROUS SILICON TECHNOLOGY FOR SOLAR CELL INDUSTRIAL APPLICATIONS

机译：用于太阳能电池工业应用的高性价比多孔硅技术

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The technologies of isotropic chemical etching of silicon surfaces and of chemical growth of PS have been outlined and applied. Additionally, experiments on the electrochemical growth of textures have been carried out. We succeeded in determining the optimal conditions for the fabrication of a new macro-porous (crater-like or honeycomb) texture on a silicon substrate. This features several considerable advantages. It gives a geometrical relief that can easily be subjected to further processing (p junction formation, passivation). Moreover, together with a second electrochemically etched layer, it can create a high quality optical system for the efficient capture of light into the surface.
机译：硅表面的各向同性化学刻蚀技术和PS的化学生长技术已经概述和应用。另外，已经进行了织构的电化学生长的实验。我们成功地确定了在硅基板上制造新的大孔（坑状或蜂窝状）织构的最佳条件。这具有几个明显的优点。它提供了一个几何浮雕，可以轻松地进行进一步处理（p / n结形成，钝化）。而且，与第二电化学蚀刻层一起，它可以创建高质量的光学系统，用于将光有效地捕获到表面中。

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