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VALENCE BAND PARAMETERS FOR WURTZITE GaN and InN

机译:伍尔兹GaN和InN的价带参数

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摘要

Theoretical studies and design of quantum well lasers employing InGaN require material parameters for both GaN and InN. However, the Luttinger-like effective-mass parameters for InN are currently unavailable. In this work, we extract effective-mass parameters for wurtzite GaN and InN from their electronic band structures calculated using the Empirical Pseudopotential Method (EPM). We obtain the electron and hole (including the heavy- (HH), light- (LH), and crystal-field split-off (CH) holes) effective-masses at the Γ point in the k_z and the in-plane k_x-k_y plane) directions using a parabolic fit. In addition, the hole effective-mass parameters are derived using the 6×6 effective-mass Hamiltonian and the k.p method. Our results will be useful for material design in wide-gap nitride-based semiconductor lasers containing InGaN.
机译:采用InGaN的量子阱激光器的理论研究和设计需要GaN和InN的材料参数。但是,InN的类似于Luttinger的有效质量参数目前不可用。在这项工作中,我们从使用经验伪电势方法(EPM)计算的电子能带结构中提取了纤锌矿GaN和InN的有效质量参数。我们获得了在k_z和面内k_x-的Γ点处的有效质量的电子和空穴(包括重(HH),轻(LH)和晶体场分裂(CH)空穴)。 k_y平面)方向使用抛物线拟合。此外,使用6×6有效质量哈密顿量和k.p方法得出孔的有效质量参数。我们的结果对于包含InGaN的宽间隙氮化物基半导体激光器的材料设计非常有用。

著录项

  • 来源
    《Nitride semiconductors》|1997年|923-928|共6页
  • 会议地点 Boston MA(US)
  • 作者

    Y. C. YEO; T. C. CHONG; M. F. LI;

  • 作者单位

    Centre for Optoelectronics, Department of Electrical Engineering, National University of Singapore, 10 Kent Ridge Crescent, SI 19260, Singapore;

    Centre for Optoelectronics, Department of Electrical Engineering, National University of Singapore, 10 Kent Ridge Crescent, SI 19260, Singapore;

    Centre for Optoelectronics, Department of Electrical Engineering, National University of Singapore, 10 Kent Ridge Crescent, SI 19260, Singapore;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 材料;
  • 关键词

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