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首页> 外文会议>Proceedings vol.2005-08; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices(SBMICRO 2005); 200509; >MICRO- AND NANOSTRUCTURES FABRICATION USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
【24h】

MICRO- AND NANOSTRUCTURES FABRICATION USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

机译：电子束光刻技术的微结构和纳米结构制造

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We have used the e-beam lithography to pattern micro- and nanostructures on silicon substrate. The beam exposure was done by a modified scanning electron microscope, JEOL 6460, with NPGS lithographic system. A single layer and bi-layer techniques were used to prepare the samples. With the single-layer technique, we have fabricated 200nm-lines, rings and resistors. With the bi-layer technique, the substrate is coated with PMGI and PMMA resists to achieve a lift-off profile. With this technique, we have fabricated honeycomb structures and a prototype tunneling device. We have also demonstrated how to align large pads to connect small devices by adjusting the offset origin in different writing fields, without moving the mechanical stage of microscope.
机译：我们已经使用电子束光刻技术在硅衬底上构图了微结构和纳米结构。光束曝光是通过带有NPGS光刻系统的改良型扫描电子显微镜JEOL 6460进行的。使用单层和双层技术制备样品。利用单层技术，我们制造了200nm的线，环和电阻器。使用双层技术，基板上涂有PMGI和PMMA抗蚀剂以实现剥离轮廓。利用这种技术，我们制造了蜂窝结构和原型隧道装置。我们还演示了如何在不移动显微镜的机械载物台的情况下，通过调整不同书写区域中的偏移原点来对齐大型焊盘以连接小型设备。

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