Université de Toulouse, ISAE, 10 avenue E. Belin, 31055, Toulouse, France;
Université de Toulouse, ISAE, 10 avenue E. Belin, 31055, Toulouse, France;
Université de Toulouse, ISAE, 10 avenue E. Belin, 31055, Toulouse, France;
Université de Toulouse, ISAE, 10 avenue E. Belin, 31055, Toulouse, France;
Université de Toulouse, ISAE, 10 avenue E. Belin, 31055, Toulouse, France;
et al;
CMOS image sensor; CIS; Active Pixel Sensor; APS, MAPS; pinned photodiode; deep submicrometer technology; DSM; ionizing radiation; total ionizing dose; TID; displacement damages; DDD; dark current; radiation-hardening-by-design; RHDB;
机译:用于深亚微米CMOS图像传感器工艺的通用辐射硬化光电二极管布局
机译:高位移损伤辐射中的剂量效果硬化CMOS图像传感器
机译:中子和质子辐射对深亚微米技术制造的CMOS图像传感器产生的位移损伤效应
机译:一种辐射硬化的宽谱响应4T CMOS图像传感器像素,通过基于基于的光电探测器采用直通硅
机译:深亚微米CMOS逻辑电路中的电流和延迟估计。
机译:通过深卷积神经网络的不确定阶级分配逼近从移动电话中使用的CMOS传感器获得的宇宙射线图像的识别
机译:CMOS图像传感器中的辐射损伤:深亚微米CIS工艺带来的测试和硬化挑战
机译:辐射强化CmOs的技术和工艺