Nakamura Inhomogeneous Crystal Project, Exploratory Research for Advanced Technology, Japan Science and Technology Agency, 1-3 Kagurazaka, Shinjyuku, Tokyo 162-8601, JAPAN;
机译:在产生H_2气体的各种溶液中进行光电化学反应后,n型GaN的表面形态研究
机译:跨n型GaN电解质界面的电荷转移
机译:(Ar / H_2O / HCl / H_2S)气体混合物中微量元素锌的冷凝行为及其在基于气化的能量和发电过程中的实际意义
机译:逆电极HCl溶液HCl溶液中N型GaN光电解的电荷转移
机译:微观研究有机半导体中电荷的命运:扫描开尔文探针测量p型和n型器件中的电荷俘获,传输和电场
机译:GaN纳米线阵列用于混合动力GAN / P3HT的电荷转移:PC
机译:H ^ + + H_2(X ^ 1Sigma_g ^ +,nu = 0,J = 0)的速率系数-> H(1s)+ H_2 ^ +电荷转移和某些宇宙学意义
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻