非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

著录项

• 来源
  《物理学报》 |2009年第5期|3208-3213|共6页
• 作者

  任晓斌; 翟天瑞; 任芝; 林晶; 周静; 刘大禾;

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• 作者单位

  应用光学北京市重点实验室,北京师范大学物理系,北京,100875;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 流变学;
• 关键词

  光子晶体; 光学全息; 非线性曝光;