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PVD溅射技术在MEMS器件制作中的应用

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摘要

简单介绍了PVD溅射系统和溅射原理．实验分析了PVD溅射技术在微晶玻璃基片溅射沉积Cu膜时，沉积速率随相关工艺参数变化而变化的几点规律．给出了用PVD溅射技术沉积的Cu膜的表面形貌（AFM）图和显微镜照片．

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来源
《传感技术学报》|2006年第5a期|P.1434-14361440|共4页
作者
王雄; 吴学忠;
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作者单位

国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙410073;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类薄膜技术;
关键词
微机电系统; PVD溅射; 薄膜沉积速率; 原子力显微镜;

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