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李添臣;
机译:通过使用二氯硅烷,硅烷和三硅烷的减压化学气相沉积法实现低温Si同质外延
机译:四氟硅烷和二氯硅烷在立式热壁CVD炉中SiC外延生长的研究
机译:使用二氯硅烷和硅烷气体在不同生长压力下4H碳化硅外延生长的比较
机译:二氯硅烷和四氟硅烷前体对SiC外延生长的比较
机译:使用二氯硅烷的高生长速率和高纯度半绝缘外延,用于功率器件。
机译:甲基二氯硅烷-甲基三氯硅烷-二甲基二氯硅烷体系的等压气液平衡
机译:通过新型废物转化工艺,IIIB阶段回收有价值的氯硅烷中间体(进展)
机译:通过新型废物转化工艺回收有价值的氯硅烷中间体,IIIB阶段(进展)
机译:用于生产二氯硅烷,单氯硅烷和硅烷的多塔式反应精馏工艺。
机译:在蓝宝石衬底上生产外延硅膜-通过含二氯硅烷的气体混合物中的化学气相沉积
机译:氯乙基-甲基二氯硅烷的生产工艺
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