首页> 中文期刊> 《现代化工》 >氟化氩浸渍光刻法用石英光掩膜基板

氟化氩浸渍光刻法用石英光掩膜基板

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

日本旭硝子公司(Asahi Glass)已生产出氟化氩(ArF)激光分档器浸渍光刻法用的合成石英光掩膜基板。这一技术突破归功于该公司为将合成石英的双折射率降低至1nm以下而开发的技术。

著录项

来源
《现代化工》 |2004年第10期|69-70|共2页
作者

展开▼
作者单位

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TQ320.722;
关键词
日本旭硝子公司; 氟化氩浸渍光刻法; 石英光掩膜基板; 生产能力; 半导体光刻法; 分档器透镜;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 光掩膜石英玻璃基板的制造工艺概述 [J] . 陈娅丽 ,沈建明 ,汤明明 . 玻璃搪瓷与眼镜 . 2021,第004期
2. 光掩膜石英玻璃基板的制造工艺概述 [J] . 陈娅丽 ,沈建明 ,汤明明 . 玻璃与搪瓷 . 2021,第004期
3. 光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性 [J] . 孔泳 ,陈恒武 ,云晓 . 分析化学 . 2007,第005期
4. 光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道 [J] . Aaron Hand . 集成电路应用 . 2006,第007期
5. 光掩膜版用低羟基高纯石英玻璃的研究 [J] . 陈娅丽 ,吴椿烽 ,钱宜刚 . 玻璃 . 2021,第003期
6. 石英玻璃掩膜基板化学机械抛光的影响因素分析 [C] . SHAO Zhu-feng ,邵竹锋 ,TIAN Shu-zhong . 2015年全国玻璃科学技术年会 . 2015
7. 利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距 [A] . 袁伟 . 2007

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号