电沉积方式对铌表面熔盐渗硅的影响

王雁利; 杨海丽; 吴晔康; 徐宏; 王心悦; 冯策

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电沉积方式对铌表面熔盐渗硅的影响

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采用由氯化钠、氯化钾、氟化钠和二氧化硅(摩尔比为1:1:3:0.3)组成的熔盐,分别以直流、单脉冲、换向脉冲的电沉积方式在纯铌表面渗硅.对比研究了不同电沉积方式下所得渗硅层的厚度、成分、组织、相结构和抗氧化性.结果表明,渗硅层厚度按照单脉冲、换向脉冲、直流电沉积的方式依次降低.与直流和单脉冲电沉积相比,换向脉冲方式所得渗硅层的组织更加致密、平整.电沉积方式对渗硅层的相结构无影响,所得渗硅层均由单相NbSi2组成,并在(110)和(200)晶面上择优生长.换向脉冲方式制备的渗硅层抗高温氧化性能最好.

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来源
《电镀与涂饰》 |2015年第20期|1160-1165,后插1|共7页
作者
王雁利; 杨海丽; 吴晔康; 徐宏; 王心悦; 冯策;
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作者单位

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009;

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正文语种 chi
中图分类 TG146.416;
关键词
铌; 渗硅; 熔盐; 电沉积; 直流; 脉冲; 高温氧化;

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