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Jay Minami; Alisa Hart;
泛林研究公司;
弗里蒙特;
加州94538 U.S.A.;
机译:介绍雾冷却技术和万万リリリリ先先先先先先先先観
机译:利用脉冲电位阳极氧化技术对N型硅进行选择性刻蚀的刻蚀停止工艺
机译:用于硅LSI器件的多晶硅干法刻蚀技术
机译:使用不同的轮廓分析技术比较刻蚀的硅和刻蚀的硅上的羟基磷灰石层的同一区域的面积测量结果
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构
机译:采用各向异性湿法刻蚀技术制作低损耗硅波导和光栅耦合器
机译:多晶硅太阳电池随机分布纹理的反应离子刻蚀。年度报告
机译:利用结构选择性外延生长技术和选择性硅刻蚀技术形成单晶硅图形的方法
机译:结构选择性表位生长技术及利用选择性硅刻蚀技术形成单晶硅图形的方法
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