菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

著录项

• 来源
  《影像科学与光化学》 |2002年第1期|10-18|共9页
• 作者

  杨松杰; 孟凡顺; 田禾; 贡雪东; 肖鹤鸣;

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• 作者单位

  华东理工大学,精细化工研究所,上海,200237;

  华东理工大学,精细化工研究所,上海,200237;

  华东理工大学,精细化工研究所,上海,200237;

  南京理工大学,化学系,南京,210094;

  南京理工大学,化学系,南京,210094;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 物理化学（理论化学）、化学物理学;
• 关键词

  菁染料; 光稳定性; 份菁染料; 量子化学计算;