菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

杨松杰; 孟凡顺; 田禾; 贡雪东; 肖鹤鸣

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菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

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利用UV Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学 .与相应的份菁染料相比 ,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性 .运用量子化学中的SCF MO PM3方法 ,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构。

机译：利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF-MO-PM3方法,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构,并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系.

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来源
《浙江大学学报：A卷英文版》 |2002年第1期|P.10-18149|共10页
作者
杨松杰; 孟凡顺; 田禾; 贡雪东; 肖鹤鸣;
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作者单位

华东理工大学精细化工研究所上海 200237;

南京理工大学化学系南京 210094;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类物理化学（理论化学）、化学物理学;
关键词
菁染料; 光稳定性; 份菁染料; 量子化学计算;

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