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硅胶法铜离子印迹聚合物的制备及性能研究

         

摘要

本文描述了用N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺(TPED)和2-醛基吡啶在铜离子存在的条件下修饰硅胶表面从而创造出一种新的对铜离子具有较强吸附能力和选择性的铜离子印迹聚合物,同时研究了印迹聚合物对Cu2+的吸附性能。

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