首页> 中文期刊> 《工程科学学报》 >不同缓冲层对Ni81Fe19薄膜性能影响和微结构分析

不同缓冲层对Ni81Fe19薄膜性能影响和微结构分析

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

采用磁控溅射方法制备分别以Ta和NiFeCr为缓冲层的Ta（NiFeCr）/NiFe/Ta薄膜材料.对于相同厚度的NiFe薄膜,与传统材料Ta相比,用NiFeCr作缓冲层薄膜的各向异性磁电阻有显著的提高.X射线衍射结果表明,与Ta缓冲层相比NiFeCr缓冲层可以诱导更强的NiFe（111）织构.高分辨透射电子显微镜结果表明,NiFeCr缓冲层和NiFe层的晶格匹配非常好,NiFe沿着NiFeCr外延生长,以NiFeCr为缓冲层的NiFe薄膜具有良好的晶体结构.对薄膜进行热处理,以NiFeCr缓冲层为缓冲薄膜的各向异性磁电阻值在350℃以下基本保持不变,当退火温度超过350℃后,其值会明显下降.以NiFeCr缓冲层的薄膜在350℃以下退火具有良好的热稳定性.

著录项

来源
《工程科学学报》 |2012年第7期|813-816|共4页
作者
李明华; 李伟; 丁雷; 刘洋; 滕蛟;
展开▼
作者单位

北京科技大学材料科学与工程学院;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TB383.2;
关键词
坡莫合金; 薄膜; 缓冲层; 磁致电阻; 微观结构; 磁控溅射;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 利用X射线衍射考察不同缓冲层对AlGaN外延薄膜微结构的影响 [J] . 林波 ,左长明 ,周勋 . 分析测试技术与仪器 . 2009,第003期
2. LaNiO_3缓冲层对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜微结构和介电性能的影响 [J] . 石金川 ,张丛春 ,侯捷 . 上海交通大学学报 . 2009,第3期
3. 生长在类单晶硅片上的Ni81Fe19薄膜的微结构和磁性能研究 [J] . 王禹1 ,邹帅12 ,徐思晨1 . 应用物理 . 2019,第006期
4. 不同缓冲层对柔性AZO薄膜光电性能的影响 [J] . 陈甲1 ,李林骏1 ,张力江1 . 材料科学 . 2018,第006期
5. 不同金属缓冲层对GaN薄膜的光学及电学性能的影响 [J] . 翟化松 ,余春燕 ,高昂 . 无机化学学报 . 2014,第003期
6. Ta缓冲层对超薄NiCo薄膜微结构和磁电特性的影响 [C] . 王国松 ,张珊珊 ,甄营 . 第七届中国功能材料及其应用学术会议 . 2010
7. hcp缓冲层和Fe掺杂对ZnO薄膜微结构和光学性能的影响 [A] . 张小雷 . 2013

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号