DyFeCo磁光薄膜的溅射工艺研究

卢正启; 李佐宜; 胡作启; 林更琪

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采用射频磁控溅射方法制备了ＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压、溅射功率对ＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响．实验表明：反射率随氩气压升高而降低，矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减小，高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差．本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减小．反射率随溅射功率增加而升高，到达最大值后又逐渐下降．矫顽力随溅射功率增加而逐渐增大，到达最大值后，磁光克尔回线反向。

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来源
《华中科技大学学报：自然科学版》 |1996年第6期|76-79|共4页
作者
卢正启; 李佐宜; 胡作启; 林更琪;
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作者单位

固体电子学系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类生产工艺;
关键词
磁光薄膜; 溅射功率; 矫顽力; 磁光记录材料;

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