反应溅射DyFeCo薄膜的界面特征及其对磁光特性的影响

熊锐; 李佐宜

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采用RF磁控溅射方法制备了一系列AlN／DyFeCo／glass多层磁光薄膜。扫描电镜分析表明，随着溅射DyFeCo薄膜时氩气压的增大，AlN／DyFeCo界面的粗糙程度增大。进一步的研究表明，界面粗糙程度的改变对磁光多层膜的磁光特性影响很大，界面越粗糙，矫顽力从越大，反射率R越低，而克尔角θk首先随表面粗糙程度的增大而增大，到达一极大值然后再随表面粗糙程度的增大而减小。

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来源
《磁性材料及器件》 |1998年第2期|30-33|共4页
作者
熊锐; 李佐宜;
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作者单位

华中理工大学固体电子学系磁性教研室;

华中理工大学固体电子学系磁性教研室;

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正文语种 CHI
中图分类 TP333.41;
关键词
磁光多层膜; 界面; 矫顽力; 克尔角; 反射率; 磁光盘;

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