PECVD反应腔内置辅助加热对氮化硅膜沉积的影响

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• 来源
  《中小企业管理与科技》 |2021年第29期|182-184|共3页
• 作者

  李晔纯; 张弥涛; 李明; 郭艳;

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• 作者单位

  湖南红太阳光电科技有限公司 长沙 410205;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 蓄热（能）器;
• 关键词

  PECVD; 辅助加热; 工艺时间; 均匀性;