低能Ar离子束辅助沉积Ag(111)薄膜

著录项

• 来源
  《核技术》 |2005年第1期|34-39|共6页
• 作者

  江炳尧; 蒋军; 冯涛; 任琮欣; 张正选; 柳襄怀; 郑里平;

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• 作者单位

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 真空镀与气相镀法;
• 关键词

  离子束辅助沉积; Ag膜; 沟道效应; 择优取向;