低能Ar离子束辅助沉积Cu、Ag、Pt薄膜

江炳尧; 冯涛; 任琮欣; 柳襄怀

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低能Ar离子束辅助沉积Cu、Ag、Pt薄膜

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采用低能Ar离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)衬底上分别沉积Cu、Ag、Pt薄膜.实验发现,若辅助轰击的Ar离子束沿衬底法线方向入射,当离子/原子到达比为0.2时,沉积的Cu膜呈(111)晶向,而Ag、Pt膜均呈(111)和(100)混合晶向.当辅助轰击的Ar离子束偏离衬底法线方向45°入射时,沉积的Cu、Ag、Pt膜均呈(111)择优取向.采用Monte Carlo方法模拟能量为500 eV的Ar离子入射单晶Ag所引起的原子级联碰撞过程,分别算得Ar离子入射单晶Ag(100)面、(111)面时,Ar离子的溅射率与入射角和方位角的关系.对离子注入的沟道效应和薄膜表面的自由能对薄膜择优取向的影响作了初步的探讨和分析.

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来源
《核技术》 |2008年第1期|10-14|共5页
作者
江炳尧; 冯涛; 任琮欣; 柳襄怀;
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作者单位

中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050;

纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,华东师范大学,上海,200062;

中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050;

中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;真空镀与气相镀法;
关键词
离子束辅助沉积; Cu、Ag、Pt薄膜; 择优取向;

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