首页> 中文期刊> 《光电子．激光》 >光刻机的分辨率和对准特性研究

光刻机的分辨率和对准特性研究

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文以 PL A- 5 0 1F光刻机为例 ,研究如何使光刻机的分辨率和对准精度得到充分发挥。指出了光源、光刻胶、滤光片和主物镜的相互匹配是充分发挥光刻机分辨率的关键问题 ;在提高光刻工件的对准精度方面 ,牵涉到母板的套准图形设计及对准时的技巧。

著录项

来源
《光电子．激光》 |2001年第11期|1202-1203|共2页
作者
唐九耀; 曹向群; 陈钰清;
展开▼
作者单位

浙江大学国家光学仪器工程技术研究中心;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻机; 分辨率; 对准特性;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. Nikon光刻机激光步进对准系统研究 [J] . 罗涛 . 电子与封装 . 2019,第008期
2. 全自动光刻机对准系统的设计与研究 [J] . 杨建章 . 电子工业专用设备 . 2017,第4期
3. 关于光刻机精细对准方法的研究 [J] . 鹿凯 ,王友旺 . 电子技术与软件工程 . 2013,第021期
4. 分步投影光刻机对准系统应用与研究 [J] . 吴成功 . 电子工业专用设备 . 2004,第009期
5. Nikon光刻机对准机制和标记系统研究 [J] . 严利人 . 微细加工技术 . 2002,第003期
6. 衬底材料对光刻机对准精度的影响研究 [C] . 何峰 ,吴志明 ,王军 . 2009年先进光学技术及其应用研讨会 . 2009
7. 光刻机精细对准方法研究 [A] . 梁友生 . 2005

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号