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周小兵;
无;
PECVD; 二氧化硅; 薄膜生长;
机译:通过感应脉冲磁控溅射,空心阴极电弧激活沉积和磁控PECVD沉积的传感器和光伏应用电绝缘Al2O3和SiO2膜
机译:TEOS-PECVD系统用于高生长速率的SiO2膜沉积
机译:在O-2 / TEOS螺旋反应器中沉积的PECVD SiO2膜的原位椭偏和红外分析
机译:PECVD法从SiCl4光稀释氢中低温快速生长多晶硅薄膜
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:使用等离子增强化学气相沉积法在SiO2上生长的大面积纳米晶石墨膜(NCG)上的数据集
机译:PECVD在OT59黄铜上沉积的SiO2膜的腐蚀防护和力学性能
机译:电离团簇束沉积铝膜在siO2上的电迁移行为
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)掺杂氧的低介电(LOW K)势垒膜
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)掺杂氧的新型低介电(LOW K)势垒膜
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备低温低应力低k介电体的低温工艺
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