首页> 中文期刊> 《科技创新与应用》 >硅片清洗技术的研究进展

硅片清洗技术的研究进展

         

摘要

文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展,包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果.重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗,并分析了各种清洗工艺的优缺点,讨论了硅片清洗工艺中存在的问题,并提出了进一步发展的方向.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号