硅外延材料制造过程中先进配套条件的研究

唐发俊; 赵扬; 李明达; 马丽颖; 王楠

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硅外延材料制造过程中先进配套条件的研究

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cqvip:应用于半导体产业的硅外延材料,其制造工艺的发展迄今已将近50年。一方面,为了满足硅外延片从小尺寸向大尺寸发展以及材料均匀性要求的不断提高,其制造设备从多片式外延炉向单片式外延炉发展;另一方面,随着半导体元器件制造对硅外延片的质量如材料洁净度、生产稳定性等方面提出了更高的要求,硅外延材料制造过程中的配套条件也经历了一系列的发展,例如,气体纯化器、起泡器、气体流量补偿器等配套装置的应用,极大改善了硅外延片的质量。通过对气体纯化器、起泡器、气体流量补偿器原理进行介绍,阐述其与硅外延片质量改善的关系。

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来源
《天津科技》 |2020年第4期|18-1922|共3页
作者
唐发俊; 赵扬; 李明达; 马丽颖; 王楠;
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作者单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所半导体材料硅外延部天津 300220;

天津大学材料科学与工程学院天津市材料复合与功能化重点实验室天津 300350;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类一般性问题;
关键词
硅外延炉; 气体纯化器; 起泡器; 气体流量补偿器;

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