Method to determine the sticking coefficient of precursor molecules in atomic layer deposition

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• 来源
  《Applied Surface Science》 |2009年第14期|6620-6623|共4页
• 作者

  M. Rose; J.W. Bartha;

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• 作者单位

  Fraunhofer IKTS, 01277 Dresden, Germany;

  Department of Electrical Engineering and Information Technology, IHM, Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, Germany;

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• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  atomic layer deposition; sticking coefficient; deep trench; simulation; free molecular flow; surface chemistry;

  机译：原子层沉积;黏着系数深trench模拟;自由分子流表面化学;