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Selective metal pattern formation and its EMI shielding efficiency

机译：选择性金属图案的形成及其EMI屏蔽效率

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A novel method for selective metal pattern formation by using an enhanced life-time of photoexcited electron-hole pairs in bilayer thin film of amorphous titanium dioxide and hole-scavenger-containing poly(vinyl alcohol) was proposed. By UV-irradiation through photomask on the bilayer film, the photodefined image of photoelectrons could be easily and simply produced, consequently resulting in selective palladium (Pd) catalyst deposition by reduction. The successive electrolessplating on Pd catalysts and electroplating on electrolessplated pattern were possible. Furthermore, the electromagnetic interference shielding efficiencies of the metal mesh patterns with various characteristic length scales of line width and thickness were investigated.
机译：提出了一种通过增加非晶态二氧化钛和含空穴清除剂的聚乙烯醇的双层薄膜中光激发电子-空穴对的寿命来形成选择性金属图案的新方法。通过在双层膜上通过光掩模进行紫外线照射，可以轻松而简单地产生光电子的光定义图像，从而通过还原而选择性沉积钯（Pd）催化剂。可以在Pd催化剂上进行连续化学镀，也可以在化学镀图案上进行连续电镀。此外，研究了具有各种特征长度尺度的线宽和线宽的金属网格图案的电磁干扰屏蔽效率。

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