机译:溅射深度分布的俄歇电子能谱表征非晶态Zr基合金上的氧化物层
Leibniz Inst Festkorper & Werkstofforsch, IFW Dresden, D-01171 Dresden, Germany;
Auger spectroscopy; electrochemical analysis; sputtering;
机译:带有溅射深度分析的俄歇电子能谱表征非晶态Mg基合金上的氧化物层
机译:低能溅射深度分析和因子分析的俄歇电子能谱研究SiC中溅射诱导的蚀变层
机译:低温氧化法制备的电磁片上铁氧化物层的俄歇电子能谱深度剖析
机译:螺旋电子光谱溅射深度分析测定纳米结构中纳米结构中的间隙系数
机译:使用X射线衍射,俄歇电子能谱和磁光Kerr效应来生产,分析和表征非晶磁性材料。
机译:非晶氧化物合金作为界面层可广泛用于有机光伏电池的电子结构
机译:模拟离子溅射和俄歇电子能谱深度剖析 Cu / Co中混合的研究