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机译:基于模型的抗蚀剂回流焊光学邻近度校正
School of Information, Communications and Electronics Engineering, Catholic University of Korea, Bucheon, Korea;
lithography; lithography simulation; chemically amplified resist; thermal reflow; model-based OPC; OPC;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:一种基于稀疏矩阵模型的光学邻近校正算法,在分段和控制点之间具有基于模型的映射
机译:在不更改基于模型的光学邻近校正的情况下,通过抗蚀剂替换来消除批量生产中的图案崩溃的方法
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:光学相干断层扫描的相敏信号处理的体相误差校正
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:利用并行光电图像处理和全局光流诊断技术确定平面剪切层光学相位校正