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Wide tunable ultraviolet random lasing action from ZnMgo thin films

机译:ZnMgo薄膜具有广泛的可调谐紫外线随机激射作用

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摘要

Ultraviolet random lasing action with a tunable wavelength between 375 and 400 nm has been realized from highly disordered Zn_(1-x)Mg_xO (for 0≤x≤0.3) polycrystalline thin films deposited on silicon substrates by the filtered cathodic vacuum arc technique. The emission energy can be continuously tuned within the ranges of 3.10-3.31 eV, while the corresponding lasing threshold remained relatively uniform.
机译:已经通过过滤阴极真空电弧技术从沉积在硅衬底上的高度无序的Zn_(1-x)Mg_xO(对于0≤x≤0.3)的Zn_(1-x)Mg_xO(对于0≤x≤0.3)的多晶薄膜实现了波长在375至400 nm之间的紫外随机激光作用。发射能量可以在3.10-3.31 eV的范围内连续调整,而相应的激光阈值保持相对均匀。

著录项

  • 来源
    《Journal of Crystal Growth》 |2009年第1期|16-18|共3页
  • 作者单位

    School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798, Singapore;

    School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798, Singapore;

    School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798, Singapore;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    ZnO; ZnMgO; wavelength tunable; random lasing; thin film;

    机译:氧化锌;氧化锌镁;波长可调随机激射薄膜;

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