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机译:氮化scan的HVPE在6H-SiC(0001)上
Applied Materials Science, Institute for Molecules and Materials, Radboud University, Toernooiveld 1, 6525 ED Nijmegen, The Netherlands;
A1. Impurities; A1. X-ray diffraction; A3. Hydride vapor phase epitaxy; B1. Nitrides; B2 Semiconducting III-V materials;
机译:HVPE在6H-SiC衬底上的ScN(111)薄膜上生长氮化铝氮化铝纳米线
机译:(0001)6H-SiC上的HVPE对AlN缓冲层上生长的ELOG GaN的TEM评估
机译:六方氮化硼薄膜在6H-SiC上生长的原子力显微镜研究(0001)-编辑选择
机译:高温 - 氢化气相外延(HT-HVPE)的(HT-HVPE)在(0001)A1N模板上的氮化硼生长。
机译:原子清洁的氮化镓(0001)和氮化铝(0001)薄膜的制备,表征以及通过碘汽相生长沉积厚的氮化镓薄膜。
机译:HVPE生长的GaN晶体中的应力对MOCVD-GaN / 6H-SiC衬底的影响
机译:氮化Scan在6H-SiC上的HVPE(0001)