Diffraction analysis of digital micromirror device in maskless photolithography system

Zheng Xiong; Hua Liu; Xiangquan Tan; Zhenwu Lu; Cuixia Li; Liwei Song; Zhi Wang

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Diffraction analysis of digital micromirror device in maskless photolithography system

机译：无掩模光刻系统中数字微镜器件的衍射分析

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A digital micromirror device (DMD) acts as a spatial light modulator in a maskless photolithography system. Illuminated by coherent light, DMD performs as a two-dimensional diffraction grating because of its periodical internal structure. Diffraction efficiency is an important factor for evaluating the exposure doses. A diffraction model of DMD based on Fourier analysis demonstrates that errors of the DMD's manufacture and the precision of the machining of the optical mechanical structure affect the diffraction efficiency. Additionally, analysis of exposure results by the diffraction model of DMD in Tracepro explains the degradation of the exposure quality and is helpful for calibrating the direction of optical focusinq.

机译：在无掩模光刻系统中，数字微镜器件（DMD）充当空间光调制器。由于相干光的周期性内部结构，DMD在相干光的作用下可以用作二维衍射光栅。衍射效率是评估暴露剂量的重要因素。基于傅立叶分析的DMD衍射模型表明，DMD的制造误差和光学机械结构的加工精度会影响衍射效率。此外，使用Tracepro中DMD衍射模型对曝光结果进行分析，可以解释曝光质量的下降，并有助于校准光学聚焦方向。

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来源
《Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS》 |2014年第4期|043016.1-043016.8|共8页
作者
Zheng Xiong; Hua Liu; Xiangquan Tan; Zhenwu Lu; Cuixia Li; Liwei Song; Zhi Wang;
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作者单位

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China,University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 130039, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China,University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 130039, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China;

Chinese Academy of Sciences, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun 130033, China;

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正文语种 eng
中图分类
关键词
MOEMS; digital micromirror device; blazed grating; diffraction efficiency; spatial light modulator; maskless photolithography system;

机译：MOEMS;数字微镜设备;炽热的光栅衍射效率空间光调制器;无掩模光刻系统;

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