...
机译:光刻胶线边缘粗糙度的量化。 Ⅱ。缩放和分形分析以及最佳粗糙度描述符
Institute of Microelectronics (IMEL), NCSR "Demokritos," P. O. Box 60228, Aghia Paraskevi, 153-10 Attiki, Greece;
机译:光刻胶线边缘粗糙度的量化。 Ⅰ。自上而下的扫描电子显微镜图像离线分析与在线分析的比较
机译:基于TCAD的栅极线边缘粗糙度对纳米级MOS晶体管性能和缩放比例影响的统计分析和建模
机译:基于TCAD的栅极线边缘粗糙度对纳米MOS晶体管性能和缩放比例影响的统计分析和建模
机译:使用AFM技术通过缩放和分形概念对线边缘粗糙度进行空间分析
机译:对乙酰氨基酚单晶表面粗糙度的分形分析和腐蚀机理研究。
机译:如何通过协方差分析在相关尺度上选择2D和3D粗糙度参数
机译:基于Tcad的栅极线边缘粗糙度统计分析和建模对纳米级mos晶体管性能和缩放的影响