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首页> 外文期刊>Materials Chemistry and Physics >a-Si TFT technologies for large-size and high-pixel-density AM-LCDs
【24h】

a-Si TFT technologies for large-size and high-pixel-density AM-LCDs

机译：用于大尺寸和高像素密度AM-LCD的a-Si TFT技术

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One of the technical trends for a-Si TFTs is their application to large-size, high-pixel-density AM-LCDs such as XGA, EWS and HDTV. For these applications, the TFT performance must be improved and production throughput must be increased to reduce the cost of manufacturing. We will discuss four technologies which will be most important for these purposes. They are: (1) fully self-aligned TFT technology, (2) non-mass-separated ion-doping technology; (3) aluminum-gate-line process technology; and (4) high-deposition-rate a-Si technology. All of them are also suitable for current AM-LCDs such as VGA displays. These technologies are expected to improve TFT device characteristics as well as increase production throughput.
机译：a-Si TFT的技术趋势之一是将其应用于大尺寸，高像素密度的AM-LCD，例如XGA，EWS和HDTV。对于这些应用，必须提高TFT性能，并必须提高生产量以降低制造成本。我们将讨论对这些目的最重要的四种技术。它们是：（1）完全自对准的TFT技术，（2）非质量分离的离子掺杂技术； （3）铝栅线工艺技术； （4）高沉积率非晶硅技术。它们也都适用于当前的AM-LCD，例如VGA显示器。这些技术有望改善TFT器件的特性并提高生产量。

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