机译：日立化学开发用于半导体的CMP浆料
日立化成株式会社山崎事業所研磨材料開発部;
机译：第42届有机合成研讨会（2010年）-化学技术的变化时代-标题研讨会分别于2010年10月27日（星期三）和28日（星期四）举行，为期两天（德国）大阪市工业研究所它在大型礼堂举行，有43人参加。在本次研讨会中，支持有机合成，氧化反应，光学活性物质生产，药物工艺开发，工艺化学的当前和未来前景，分子电子，液晶有机半导体，有机n型半导体，染料的有机分子催化剂的工业化专注于敏化太阳能电池的开发，自组织空间中的未来化学等方面，在该领域的前线发挥积极作用的三名大学教授，四家公司和产业研究。我们由Tokoro等政府部门的三人讲课。参加者对聆听和
机译：日立化学在年中将半导体用CMP浆料的产能提高了30％
机译：Hitachi Chemical，CMP浆料生产能力增加3％，用于半导体
机译：大方形石英玻璃基板CMP浆液流动研究：非流动区浆料介绍
机译：磷酸烯醇丙酮酸羧化酶催化功能的分子基础和变构作用的表达研究：一级结构的确定以及催化和调节位点的预测
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