机译:倾斜角度下自组织SrTiO_3(001)基片上的膜厚取决于Fe膜的形貌
Department of Materials Science and Engineering, Frontier Research Center, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2- 1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan;
thin film; Fe; SiTiO_3; inclined angle; molecular beam epitaxy; scanning tunneling microscopy; reflection high-energy electron diffraction; step;
机译:倾斜角度下自组织SrTiO3(001)基片上的膜厚取决于Fe膜的形貌
机译:倾斜角度在Al2O3(0001)衬底上生长的Fe薄膜的磁性态的厚度依赖性
机译:倾斜角度在Al_2O_3(0001)衬底上生长的Fe薄膜的磁性态的厚度依赖性
机译:膜厚度对(001)SRTIO_3基板上的单晶BA(Fe_(0.2)Zr_(0.8))O_(3-δ)薄膜的结构和磁性的影响
机译:通过溅射沉积在硅(001)衬底上沉积的金薄膜的表面形态。
机译:在玻璃基板上用铁磁L10-FePt(001)电极溅射制备(001)BiFeO3薄膜
机译:超导性和超导体 - 绝缘体在SRTIO 3(001)衬底上超导纤虫膜中超导和超导体 - 绝缘体过渡的厚度依赖性