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【24h】

On tuning the preferential crystalline orientation of spray pyrolysis deposited indium oxide thin films

机译：调整喷雾热解沉积氧化铟薄膜的优先晶体取向

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摘要

In the present work we investigated the change of preferred crystalline orientation of indium oxide thin films prepared by ultrasonic spray technique on glass, single crystalline Si (400) and KCl single crystal substrates heated at 500 degrees C. The structural analysis suggests that films deposited on glass and Si wafer substrates are polycrystalline with a preferred grain orientation along the (222) plane. However, films deposited on KCI single crystal substrate, exhibit preferred (400) orientation. The films deposited on KCI substrates have larger grain size than the ones deposited on the other substrates. The electrical characterization indicated that films deposited on KCI substrates have lower resistivity of 0.8 x 10(-3) Omega cm. While films prepared on glass substrates exhibit higher resistivity in the order of 33 Omega cm. This discrepancy is explained in terms of oxygen diffusion from the films towards the KCl substrate. (C) 2017 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：在本工作中，我们研究了在500℃加热的玻璃，单晶Si（400）和KCl单晶衬底上通过超声喷涂技术制备的氧化铟薄膜的优选晶体取向的变化。结构分析表明，在玻璃和硅晶片基板是多晶的，沿（222）面的晶粒方向较好。但是，沉积在KCI单晶衬底上的膜表现出较好的（400）取向。沉积在KCI基板上的薄膜的晶粒尺寸大于沉积在其他基板上的薄膜的晶粒尺寸。电气特性表明，沉积在KCI基板上的膜的电阻率较低，为0.8 x 10（-3）Ωcm。尽管在玻璃基板上制备的薄膜显示出更高的电阻率，约为33Ωcm。用氧气从薄膜向KCl基材的扩散来解释这种差异。 （C）2017 Elsevier B.V.保留所有权利。

著录项

  • 来源
    《Thin Solid Films》 |2017年第1期|177-179|共3页
  • 作者

    Attaf A.; Bouhdjer A.; Saidi H.; Aida M. S.; Attaf N.; Ezzaouia H.;

  • 作者单位

    Univ Biskra, Phys Lab Thin Films & Applicat LPCMA, Biskra, Algeria;

    Univ Biskra, Phys Lab Thin Films & Applicat LPCMA, Biskra, Algeria;

    Univ Biskra, Phys Lab Thin Films & Applicat LPCMA, Biskra, Algeria;

    Univ Constantine, Fac Sci, Lab Couches Minces & Interfaces, Constantine, Algeria;

    Univ Constantine, Fac Sci, Lab Couches Minces & Interfaces, Constantine, Algeria;

    Res & Technol Ctr Energy, Lab Semi Conducteurs Nanostruct & Technol Avancee, Borj Cedria Sci & Technol Pk,BP 95, Hammarn Lif 2050, Tunisia;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    Indium oxide; Thin films; Ultrasonic spray deposition; Optical properties; Electrical properties;

    机译：氧化铟;薄膜;超声喷涂;光学性能;电学性能;

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