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机译:铜在Lexan上的物理气相沉积
FCIPT, Institute for Plasma Research, B15-17/P, GIDC, Gandhinagar - 382044, India;
copper coating; magnetron sputtering;
机译:电子束物理气相沉积技术在SiO_2p型Si(100)上沉积薄膜铜纳米结构及其氧化行为的研究
机译:比较离子化物理气相沉积和高功率磁控铜种子沉积
机译:用于超大规模集成(ULSI)器件的物理气相沉积-W_2N衬垫材料上的铜的“无铅”电化学沉积
机译:化学气相沉积和物理气相沉积技术沉积的亚微米铜线的电沉积
机译:通过物理气相沉积制备的铝铜铁铬和铝铜铁准晶体耐磨涂层的相,微观结构和化学性质。
机译:化学气相沉积法在铜箔上生长U形石墨烯结构域
机译:用于电离物理气相沉积铜的rf持续氩和铜等离子体
机译:重力对薄膜沉积的影响:铜酞菁的物理气相传输