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【机译】 III组氮化物半导体衬底及其制造III族氮化物半导体衬底的方法
【机译】 CVD反应器室具有电阻加热的碳化硅沉积
【机译】 熔融靶溅射(MTS)沉积,用于增强的动能和电离原子的助熔剂
【机译】 底层基板,包括基团的13个氮化物的种子晶体层,其具有条纹状突起和凹槽的凹槽和轴轴的方向上的偏角
【机译】 闪烁晶体,一种辐射检测系统,包括闪烁晶体,以及使用辐射检测系统的方法
【机译】 激光加工装置
【机译】 非线性光学晶体的钝化
【机译】 用于使用容器生长单晶的单晶和种植方法的血管
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【机译】 基板和制备方法的方法
【机译】 掺杂型钻石
【机译】 碳化硅单晶晶片,锭及其制造方法
【机译】 硅晶片的热处理方法
【机译】 氧浓缩评估方法
【机译】 硅熔融对流图案控制方法,硅单晶制造方法和硅单晶拉动装置
【机译】 外延晶片制造方法和外延晶片
【机译】 第III组氮化物半导体衬底
【机译】 用化学气相沉积合成厚单晶金刚石材料
【机译】 制造SiC单晶的方法
【机译】 作为氮气掺杂空位的硅锭主导地位,以及具有由其形成的径向分布氧沉积物的密度和尺寸的热处理的晶片。